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另外值得一提的是，Its primary function involves refrigeration: ASML's extreme ultraviolet lithography systems, the exclusive equipment able to etch patterns under 7nm, produce intense heat during use. Helium's heat transfer properties and non-reactive nature render it the sole gas appropriate for cooling these devices without contamination hazards. Apart from EUV, helium-based cooling of silicon wafers during ion implantation can influence dopant positioning accuracy, even with minimal temperature fluctuations.
面对3 Reasons带来的机遇与挑战，业内专家普遍建议采取审慎而积极的应对策略。本文的分析仅供参考，具体决策请结合实际情况进行综合判断。